化学汽相淀积
- 网络chemical vapor deposition; CVD; chemical vapour deposition
化学汽相淀积化学汽相淀积
chemical vapor deposition
材料科... ... Ultramicroscopy 超显微术 Chemical Vapor Deposition 化学汽相淀积 Journal of Materials Research 材料研究杂志 ...
CVD
化学汽相淀积(CVD)设备是介质膜生长的主要工艺设备，近年来管式LPCVD设备已成功应用于MEMS工艺中，平板型PECVD设 …
chemical vapour deposition
deposition是... ... chemical deposition 化学淀积 chemical vapour deposition 化学汽相淀积 continental deposition 大陆条件 ...
LCVD
宋登元;光诱导化学汽相淀积(LCVD)技术的研究进展[J];半导体技术;1989年02期3 4 季振国,汪雷，袁骏;硅表面氧化膜的X光电子 …
PECVD
等离增强子化学汽相淀积(PECVD) PECVD 法生长的 Si02 具有生长温度低(300oC 以下),膜层质量好,膜厚均匀,有膜层 质量和工 …
CVD Chemical Vapor Depositon
... CSP Chip Size Package 芯片尺寸封装 CVD Chemical Vapor Depositon 化学汽相淀积 DFP Dual Flat Package 双侧引脚扁 …
LPCVD
用低 压化学汽相淀积(LPCVD)方法，在同一设备中同时在硅片表面上生成 半球形硅晶粒薄层构成的粗糙绒面结构，和在低温下 …
PVD
...改善蚀刻 (etch)、化学汽相淀积 (CVD)、化学汽相淀积 (PVD) 和扩散 (diffusion)，该产品的创新技术提供更好的气流稳定性、 …