大家在查：西林寺白合镇孟塘镇黄家镇张建萍研磨工艺减压性骨坏死陈查理在奥林匹克压舱物博兰斯勒

抛光垫

网络Pad; Polishing Pad; Polish pad

抛光垫

抛光垫

抛光垫

Pad

2.1 抛光垫(Pad)与沟槽设计 122.1.1 抛光垫(Pad) 122.1.2 抛光垫沟槽设计 132.2 CMP制程介绍 222.2.1 ILD CMP 222.2.2 Tung…

Polishing Pad

抛光垫(Polishing pad)的应用是使工件达到精微表面抛光，可有效移除工件表面凹凸及平坦化的效果。

Polish pad

译网情深 - 打印文章 - ... Pinched Off 夹断 Polish pad 抛光垫 Poly-Silicon 多晶硅 ...

Polyurethane Pad

...，其配置乃将晶圆压在流满了抛光液(Slurry)的抛光垫(Polyurethane Pad)上，并各自旋转，此时磨浆内的氧化剂会先将晶圆的 …

FLOOR PAD

...盘刷【洗地刷】（DISK BRUSH）和菜瓜布刷【抛光垫】（FLOOR PAD），这款机器可非常彻底地对於小到中型区域，以及 …

Buffing Pads

[IN] [V280515] 印度求购抛光垫(Buffing Pads) (04-01) 分值3 Industrial Buffing Pads Quantity Required: 1000 Unit/Units Detail...

Polishing Pads

... 相关买家: 空气压缩机; portable air compressor; 相关买家: 抛光垫; Polishing Pads; 相关买家: 邮件袋; mailer bags; ...

2

A polishing pad includes polishing elements interdigitated with one another over a surface of the polishing pad .

一种抛光垫，包括在抛光垫表面上方彼此交叉的抛光单元。

3

The invention relates to a conductive polishing pad and a manufacturing method thereof.

本发明涉及一种可导电的抛光垫及其制造方法。

4

Therefore, the influence parameters aiming at CMP process and their effects to polishing result need to be researched deeply.

抛光垫作为 CMP 系统的重要组成部分，其性能直接影响 CMP 过程及抛光效果。

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Besides , the cleaning device can prevent a wafer from scratching and can also prolong the service life of the polishing pad .

此外，可以防止晶片刮伤，并且还可以延长抛光垫的寿命。

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Diamond disk conditioners have long served the semiconductor chemical mechanical polishing (CMP) process for polish pad dressing .

钻石修整器应用于化学机械抛光中抛光垫的修整，已有很长的一段时间。

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A chemical mechanical polishing pad comprising a water-insoluble matrix which comprises (A ) a styrene polymer and (B) a diene polymer.

一种化学机械抛光垫，包含由（A ）苯乙烯聚合物和（B ）二烯聚合物构成的非水溶性基质。

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Looking for the best buffing pads to use with Scratch and Swirl B-Gone?

还在寻找最好的抛光垫使用细痕和涡流的去除垫？

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