干法刻蚀
- 网络Dry Etching; RIE; DRIE
干法刻蚀
干法刻蚀
Dry Etching
b.干法刻蚀(dry etching):等离子体、离子束打磨(刻蚀)和反应离子刻蚀(RIE)■等离子体刻蚀:桶形刻蚀机(barrel etch…
RIE
绝对可以用干法刻蚀(RIE),只不过要加大刻蚀机功率,陶瓷难刻一些,并且处理的时候要小心,陶瓷很容易破碎!贵啊!
DRIE
...流程为,首先在完成制作工艺并测试好的器件晶圆上用 干法刻蚀(DRIE)工艺制备出典型直径为1-3μm的芯片内部通孔,对 …
ET
PMOS - 半导体器件 微电子技术-电子科技大学天地 ... • MOS 器件等效电容及电阻计算 • 干法刻蚀 ET • 化学气相沉积技术 CVD ...
Ery Eatching
...准 . 3.曝光 . 4.显影 . 5.刻蚀:采用干法刻蚀(Ery Eatching) .刻蚀:采用干法刻蚀( ) 6.去胶:化学方法及干 …
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