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反应离子刻蚀

网络RIE; DRIE; Reactive Ion Etching

反应离子刻蚀

网络释义

反应离子刻蚀

RIE

在反应离子刻蚀(RIE)及等离子体刻蚀(PE)设备中,分别采用CF_4,SF_6,NF_3和C_7F_(14),腐蚀剂气体,对(100)Si进行刻蚀.研究 …

DRIE

深度反应离子刻蚀（DRIE）可以设计具有复杂和多变几何形状的结构，并且可以使谐振器位于水平面上。谐振器必须具有足够 …

Reactive Ion Etching

　　④最后对硅基板进行反应离子刻蚀（Reactive Ion Etching）去除残留的光刻胶，即可以复制出与模版等比例的纳米图案。　　2.2 …

RIE, Reactive Ion Etching

反应离子刻蚀（RIE, reactive ion etching）是芯片制作过程中重要的一种工艺手段。在芯片制造过程中，为了制作一层金属或其 …

reactive ion etching,RIE

单晶硅常用词汇 - Crystal Growth and Raw... ... 反应离子刻蚀 reactive ion etching,RIE 等离子［体］刻蚀 plasma etching ...

Reactive ion etch

反应离子刻蚀 反应离子刻蚀（Reactive ion etch）是在等离子中发生的。 随着材料表层的“反应－剥离－排放”周期循环，材料 …

MERIE

...机既可作反应离子刻蚀 ( RIE )，又可作磁增强反应离子刻蚀( MERIE )，且转换十分方便( 只需拨一下开关 )，由于有磁场的作 …

RIE-Reactive Ion Etch

目前流行的典型设备为反应离子刻蚀（RIE-Reactive Ion Etch）系统。它已被广泛应用于微处理器（CPU）、存储（DRAM） …

例句：

The oxygen reactive etching during the processing is found out to be an effective way to improve the photoluminescence of ZnO nanorods .

论文还发现长时间氧气反应离子刻蚀能够提高氧化锌纳米棒光致发光特性的作用。

Attribute to SOI wafer and deep reactive ion etching technology used , the fabrication process of the sensor is easy to control.

由于采用 SOI 硅片和深反应离子刻蚀技术，传感器的制作工艺比较简单可行。

Study of Reaction Ion Etching Processing Technique

反应离子刻蚀加工工艺技术的研究

Study on the Technological Parameters for the Reactive Ion Etching of Si

硅的反应离子刻蚀工艺参数研究

Modeling and simulation of reactive ion etching technology

反应离子刻蚀工艺仿真模型的研究

Study on Magnetically Enhanced Reactive Ion Etching of BST Thin Films

BST 薄膜的磁增强反应离子刻蚀研究

Characteristics of Reactive Ion Etching of BST Thin Film

BST 薄膜的反应离子刻蚀研究

Study on Anisotropic Etching in Reactive Ion Etching of PMMA

反应离子刻蚀 PMMA 的各向异性刻蚀研究

反应离子刻蚀

反应离子刻蚀

RIE

DRIE

Reactive Ion Etching

RIE, Reactive Ion Etching

reactive ion etching,RIE

Reactive ion etch

MERIE

RIE-Reactive Ion Etch

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