PVD
- 网络物理气相沉积(Physical vapor deposition);物理气相沉积法;物理气相淀积
PVD
PVD
物理气相沉积(Physical vapor deposition)
物理气相沉积(PVD)技术物理气相沉积(PVD)技术 详细»回到顶部 文档分类 我要上传 会议 社区 移动 商业工具 豆丁书房 登录 注册
物理气相沉积法
物理气相沉积法(PVD)是利用电弧、高频或等离子体等高稳热源将原料加热,使之气化或形成等离子体,然后骤冷使之凝聚 …
物理气相淀积
早期的物理气相淀积(PVD)主要制备 金属薄膜,且台阶覆盖性差。化学汽相淀积(CVD)过去一直是薄膜半导体器 件淀积的 …
玻璃体后脱离(posterior vitreous detachment)
玻璃体后脱离(PVD)是指玻璃体后皮质从视网膜内表面分离。通常在玻璃体液化的基础上发生,随着玻璃体中央部的液化腔扩大…
物理气相沈积
物理气相沈积(PVD)制程用消耗性材料是我们的主要销售产品, 可分为以下几大类别:1. 蒸镀用材料: 我们提供各种形状及尺寸的 …
物理涂层(Phsical Vapor Deposit)
物理涂层( PVD) 的进展引人注目, 在炉子结构、工艺过程、自动控制等方面都取得了重大进展, 不仅开发了适应高速切削 …
1
2
3
4
5
6
7
8
9
10
12
14
15
16
17
20
21
22
23
24
25
26
27
28