等离子体增强化学气相沉积
- 网络PECVD; Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition,PECVD; PCVD
等离子体增强化学气相沉积等离子体增强化学气相沉积
PECVD
在等离子体增强化学气相沉积(PECVD)系统中，利用逐层淀积非晶硅(a-Si)和等离子体氧化相结合的方法制备二氧化硅(SiO林若 …
Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition,PECVD
【摘 要】 使用等离子体增强化学气相沉积(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition,PECVD)在P型硅片上沉积了氮化硅(S…
PCVD
前言：用直流等离子体增强化学气相沉积(PCVD)方法在不锈钢基体上制备了Ti-Si-N硬质纳米复合薄膜,研究了Si含量对薄膜硬度 …
SCVD
实验采用等离子体增强化学气相沉积(SCVD)工艺制备的超细TiCN粉末(粒径在100～200nm左右),进行细晶粒金属陶瓷烧结过程 …
FACVD
...，也在原有的沉积工艺上形成了一系列复合沉积技术，如等离子体增强化学气相沉积(FACVD)[3]、反应离子镀(ARE)[3]、等离 …
M PECVD
...体增强化学气相沉积(ECR 2PECVD )、微波等离子体增强化学气相沉积(M PECVD) [10 ]等技术。
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