物理气相沉积技术
- 网络PVD; Physical Vapor Deposition, PVD; LPVD
物理气相沉积技术物理气相沉积技术
PVD
平面磁控溅射技术属于物理气相沉积技术（PVD），它是利用带电的离子在电场中加速后，具有一定的动能轰击靶材，入射的 …
Physical Vapor Deposition, PVD
...tion,CVD）,以及用于扩散阻挡层/铜种子层的物理气相沉积技术（Physical Vapor Deposition, PVD）都具有切实可行的延续性。
LPVD
日本新制铁公司用CO[_2]激光束和离子束，利用物理气相沉积技术 (LPVD)制备超硬薄膜。图5是该装置的示意图。
PhysicalVaporDeposition
...享微博维达力公司的真空镀膜属于磁控离子溅射，是一种物理气相沉积技术（PhysicalVaporDeposition）简称PVD。
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