大家在查：家庭妇女 oppose idea I526 metastable fibonacci 森河庸医 Proforma 骇然 BOPP

CMP

美英

abbr.(=cytidine monophosphate)【化】磷酸胞苷
网络化学机械抛光(chemical mechanical polishing)；化学机械研磨；凸轮轴位置传感器

CMP

英-汉英-英网络释义

CMP

化学机械抛光(chemical mechanical polishing)

化学机械抛光[综合电子]_老古开发网文章化学机械抛光（CMP）是一种还不足20年历史的技术,它由IBM公司于1980年代中期开 …

化学机械研磨

化学机械研磨(cmp)应用在不同绝缘层与金属层终点侦测技术的研究化学机械研磨(cmp)应用在不同绝缘层与金属层终点侦测技 …

凸轮轴位置传感器

凯越凸轮轴位置传感器（CMP）凯越凸轮轴位置传感器（CMP）检测凸轮轴旋转速度，CMP 是霍尔效应式传感器，ECM 利用…

持久性

具备容器治理持久性(CMP)的 EJB 组件的自动数据映射功能一个成功使用EJB技术的例子一个金融机构的方案小组设计了这套 …

单芯片多处理器(Chip Multi-Processor)

单芯片多处理器(CMP)与同时多线程处理器(Simultaneous Multithreading，SMT)，这两种体系结构可以充分利用这些应用的指 …

例句：

In an EJB finder , the return value is a ResultSet , but it has a different number of fields than in the current CMP EJB component .

在 EJB 查找程序中，返回值是 ResultSet ，但是与当前的 CMPEJB 组件相比，字段的数量不同。

In this study , the low-loss electron (LLE) method in the SEM was applied to CMP samples at close to a right angle to the beam .

在这项研究中，低损耗电子（阿勒）在扫描电镜方法应用于中医样本接近直角的光束。

Thinking back to my CMP days , the fact that the query was in the XML deployment descriptor made this factor insignificant .

回忆我使用 CMP 的时候，查询位于 XML 部署描述符中的这一事实致使此因素无任何意义。

The results show that it is feasibility to simulate the wear and interaction of a nano-particle of the CMP on the wafer with AFM.

结果表明：采用 AFM 探针来模拟 CMP 过程中单个磨粒对芯片表面的磨损与相互作用的试验方案是完全可行的；

The non-relational procedure used in Container -Managed Persistence (CMP) will not be discussed here .

在这里不讨论用于容器管理持久性（Container-ManagedPersistence，CMP ）的非关系型过程。

To help resolve some of the trickier issues associated with writing CMP beans, the EJBMaker tool was created .

为帮助解决某些与 CMPbean 相关的棘手问题，创建了 EJBMaker 工具。

Was a regular user of Lotus Notes, which by then had been purchased by IBM , while working back at CMP .

我是当时已被 IBM 收购的 LotusNotes 的一个普通用户，在 CMP 工作。

A container-managed method in a CMP bean must be created as an abstract method .

必须将 CMPbean 中的容器管理方法创建为抽象方法。

Therefore , CMP is a strong tool for reserving a sufficient margin in the PCB manufacture process.

所以，CMP 在 PCB 中预备一个足够的空间中，是一个有力的工具。

You cannot modify these properties on a BMP connection if you want to share the physical connection with a CMP bean.

如果您想要和 CMPBean 共享物理连接，您就不能修改 BMP 连接中的这些属性。

Application Server also offers an IBM extension for resource authentication for a CMP connection factory .

ApplicationServer 也为 CMP 连接工厂的资源认证提供一个 IBM 扩展。

Question : How do we specify in WebSphere annotations if we want composers to be used for custom mappings of user types in CMP 2. x beans?

问：如果希望将编写器用于 CMP2.xBean 中用户类型的自定义映射，如何在 WebSphere 批注中指定？

Therefore, the influence parameters aiming at CMP process and their effects to polishing result need to be researched deeply.

抛光垫作为 CMP 系统的重要组成部分，其性能直接影响 CMP 过程及抛光效果。

This new backend type, introduced in Version 6 . 0, is now the preferred means of persisting CMP beans via SOA .

这个 6.0 版引入的新后端类型目前是通过 SOA 保存 CMPBean 的首选方法。

Figure 7 . 9 shows a sectional diagram of a device and the processes to which planarization CMP is applied .

图 7.9 显示了一个设备截面图和对中医的平坦化应用进程。

Keep the id the same , because (as we saw earlier ) the id is actually used to map the CMP field to the corresponding column in the schema .

请保持 id 不变，因为（就象我们先前看到的）这个 id 实际上是用于将 CMp 字段映射到模式中相应的列。

CMP entity beans easily represent the single fastest time to market of any J2EE persistence mechanism .

CMP 实体 bean 显然是所有 J2EE 持久性机制中唯一一个上市时间最快的。

One reason that this approach was abandoned is because it made loading the CMP fields an all or nothing affair.

此方法被废弃的一个原因是它使 CMP 字段要么全部被加载，要么全部不被加载。

If the stored procedure is part of the CMP bean's transaction , it should not end the transaction .

如果存储过程是 CMPbean 事务的一部分，那么它不应该中止事务。

Diamond disk conditioners have long served the semiconductor chemical mechanical polishing (CMP) process for polish pad dressing .

钻石修整器应用于化学机械抛光中抛光垫的修整，已有很长的一段时间。

Since this is an all or nothing extension , you need to decide whether or not to enable batch operations for all CMP entities .

由于这种扩展是孤注一掷的，所以您需要决定是否对所有 CMP 实体启用批处理操作。

However , Dain Sundstrom has been busy closing issues , including initial implementations of the automatic schema creation for CMP .

但是，DainSundstrom 已经在忙于解决问题，包括为 CMP 自动创建模式的初始实现。

CMP

CMP

化学机械抛光(chemical mechanical polishing)

化学机械研磨

凸轮轴位置传感器

持久性

单芯片多处理器(Chip Multi-Processor)

热词推荐

大家在看