LCVD
- 网络激光化学气相沉积(laser-chemical vapor deposition);激光化学气相沉积技术;激光化学汽相沉积
LCVD
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激光化学气相沉积(laser-chemical vapor deposition)
此外还有激光化学气相沉积(LCVD),激光物理气相沉积(LPVD)等等,自从70年代激光技术进入表面改性工程以后,表面工程技 …
激光化学气相沉积技术
...积技术………………………………(204) 3.3 激光化学气相沉积技术(LCVD)………………………………(212) 3.4 微波等离 …
激光化学汽相沉积
本文介绍了用激光化学汽相沉积(LCVD)球面微透镜的技术。In this paper, a technique of fabricating spherical surface microlens…
化学气相沉淀
低压化学气相沉淀(LCVD)low pressure chemical vapor deposition系指制作薄膜太阳电池时的一种工艺,采用在低压时,气 …
化学汽相淀积
宋登元;光诱导化学汽相淀积(LCVD)技术的研究进展[J];半导体技术;1989年02期3 4 季振国,汪雷,袁骏;硅表面氧化膜的X光电子 …
激光化学气体沉淀
2.3.3 由气相直接固化生成的工艺——激光化学气体沉淀(LCVD)2.3.4 其他工艺 2.4 产品生产过程的分类 2.5 快速原理工艺理 …
激光化学气相沉积法
... 等离子体辅助化学气相沉积 法(PACVD) 、 激光化学气相沉积法(LCVD) 、 金属有机化合物化学气相沉积法 (MOCVD)、 脉冲 …
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